▲中国光刻。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子,生产的光刻机在90nm阶段,处于光刻机技术的最后一档。就是说只要美国干预,中国将无法获得EUV光刻机。90年代末,光刻机的光源采用的是193纳米的氟化氩激光。中国每突破一极限,美国为代表的西方国家,即开始对中国出口相关产品,成为规律,谁不挣钱都着急,2015年刚说要将65纳的设备给我们,今年阿斯麦就宣布,7纳的光刻机对中国一视同仁,嘻嘻,谢谢您的仁慈,谁都能听出来,中国没有的话,实事上根本不可能,不少喷子纳闷极了,我们的进步,有这么快?,由不得你眨下眼睛。...
更新时间:2022-04-11标签: 光刻机纳米首台国产国产90纳米光刻机有用吗中国首台5纳米光刻机 全文阅读