公司正准备利用EUV光刻技术大规模生产DRAM芯片。那时,EUV平版印刷术将发挥更大的作用。中国将如何攻克半导体行业的光刻难题?业内专家也指出,高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂,但其战略意义不容忽视。相关数据显示,EUV光刻技术将使摩尔定律继续发挥作用,甚至在工艺缩小到1纳米后,摩尔定律仍将继续适用。EUV光刻机争夺战打响,国产光刻技术难题有何解?在当今半导体产业竟争白灼化的今天,荷兰光刻机的ASML公司宣布实现第100套极紫外光刻系统的出货,至2021年年底就采用EUV光刻机光刻了2600万片晶...
更新时间:2022-05-01标签: 光刻技术有哪些光刻EUV打响争夺战技术 全文阅读